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半导体行业超纯水设备

半导体行业超纯水设备

半导体行业超纯水设备是一种将离子交换技术,离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。在半导体加工过程中需要使用水进行处理,该水质的要求非常高,不能含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设备采用先进的制水技术,有效去除水中杂质,保证设备的出水水质。属高科技绿色环保技术。EDI超纯水设备备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点,已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。这种先进技术的环保特性好,操作使用简便,愈来愈多地被人们所认可,也愈来愈多广泛地在医药、电子、电力、化工等行业得到推广。

  • 工作原理
  • 产品特点
  • 产品规格
  • 技术参数
  • 应用领域

半导体行业超纯水设备是一种将离子交换技术,离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。在半导体加工过程中需要使用水进行处理,该水质的要求非常高,不能含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设备采用先进的制水技术,有效去除水中杂质,保证设备的出水水质。属高科技绿色环保技术。EDI超纯水设备备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点,已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。这种先进技术的环保特性好,操作使用简便,愈来愈多地被人们所认可,也愈来愈多广泛地在医药、电子、电力、化工等行业得到推广。

半导体行业超纯水设备主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜).淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化,提纯,浓缩或精制的目的。



半导体行业用超纯水设备工艺特点:

无需酸碱再生:在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生,而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作,保护了环境。

连续、简单的操作:在混床中由于每次再生和水质量的变化,使操作过程变得复杂,而EDI的产水过程是稳定的连续的,产水水质是恒定的,没有复杂的操作程序,操作大大简便化。

降低了安装的要求:EDI超纯水系统与相当处理水量的混床相比,有较不的体积,它采用积木式结构,可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计,使EDI在生产工作时能方便维护。


半导体行业用超纯水设备工艺流程:


1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象


2、预处理-一级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象


3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象


4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。


半导体超纯水设备水质标准要求:

半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。


半导体行业用超纯水设备应用领域:

1、电厂化学水处理

2、电子、半导体、精密机械行业超纯水

3、食品、饮料、饮用水的制备

4、小型纯水站,团体饮用纯水

5、精细化工、精尖学科用水

6、其他行业所需的高纯水制备

7、制药工业工艺用水

8、海水、苦咸水的淡化


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